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選擇等離子表面處理機時,需綜合考慮技術性能、應用需求、操作便捷性、安全性等多方面因素,以確保設備能夠滿足實際生產或研發(fā)需求,并實現(xiàn)穩(wěn)定、安全的運行。一、技術性能...
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小型等離子清洗機是一種利用低溫等離子體技術對材料表面進行高效清潔、活化或改性的設備,廣泛應用于微電子、醫(yī)療器械、精密儀器、科研實驗等領域。其核心原理基于等離子體的物理和化學作用,能夠在不損傷材料的前提下,去除表面污染物、增強表面能、提高附著力。以下是其原理及優(yōu)點的詳細分析:氣體電離:在真空腔體內,通過射頻(RF)電源或微波電源激發(fā)惰性氣體(如氬氣Ar、氦氣He)或反應性氣體(如氧氣O2、氮氣N2、氫氣H2),使其電離形成等離子體。等離子體特性:等離子體由高能電子、離子、自由基...
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等離子清洗特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導體、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地進行超清洗。
圖為PLUTO-T等離子清洗機對陶瓷基板上銀氧化層的清洗實例。
等離子清洗機可用于晶圓或者電路板表面的光刻膠去除,以及去除光學元件、半導體元件表面的光阻材料等。
圖為PLUTO-MD等離子去膠機對PCB板和硅片的去膠實例。
改善粘合力-用于光學元件、生物醫(yī)學、封裝領域等;
表面改性-用于高分子材料表面修飾、PDMS微流控芯片鍵合、玻璃等,增強表面粘附性、浸潤性、相容性;
圖為PLUTO-M對線路板、橡膠管和手機膜的表面改性實例。
等離子刻蝕是干法刻蝕中常見的一種形式,其原理是暴露在電子區(qū)域的氣體形成等離子體,電離氣體原子通過電場加速時,會釋放足夠的力量與表面驅逐力緊緊粘合材料或蝕刻表面。
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